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產(chǎn)品詳細頁Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
簡要描述:Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章納米級紋理凹槽表面可變凹槽周期和凹槽深度納米光子學研究應用的理想選擇
- 產(chǎn)品型號:
- 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
- 更新時間:2024-09-26
- 訪 問 量:379
產(chǎn)品介紹
品牌 | Edmund Optics | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 綜合 |
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學研究應用的理想選擇
通用規(guī)格
涂層:
Uncoated
構造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面質(zhì)量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05
型號
產(chǎn)品編碼 | Period (nm) | 尺寸 (mm) |
16-855 | 855 ±42.75 | 12.50 x 12.50 |
16-856 | 855 ±42.75 | 25.00 x 25.00 |
16-857 | 139 ±6.95 | 12.50 x 12.50 |
16-858 | 139 ±6.95 | 25.00 x 25.00 |
詳細資料
Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過反應離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學和光子學、生物學、化學、納米壓印和微流體領域的納米光子學研究應用的理想選擇。
請注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.
技術數(shù)據(jù)
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